涂层 PVD 它是一种等离子体涂层工艺，涉及物理过程，将另一种材料的薄固体层沉积在表面或部件上，使物体更加耐用。涂层PVD和CVD 不同，CVD 由于涂层是化学气相沉积， PVD 无需在物体表面发生化学反应，使涂层工作。涂层 PVD 可以用几种不同的技术来完成。

最常见的技术之一是等离子体溅射沉积。在这个过程中，使用等离子体轰击材料，导致一些材料蒸发，然后蒸汽沉积到所需的表面。

物理气相沉积是什么？(PVD)涂料，它们是怎样生产的？接下来我们一起带着好奇去探索一二：

首先，PVD 涂层是通过在适当的表面冷凝不同材料的蒸汽而形成的沉积物。金属、碳、陶瓷、玻璃或聚合物是最常用的材料。在薄金属薄膜的生产中，蒸发 PVD 等离子体喷涂是一种特殊形式。

对此技术而言，热等离子体火焰是在某一工作气体(如空气、氙气、氮气等)中产生的，然后以细粉的形式引入涂层材料。当它撞击相对较冷的基材表面时，这种能量迅速熔化或蒸发，形成相当厚的薄膜。

等离子体喷涂的一个主要优点是可以在大气压下进行，所以不需要真空设备。这个过程也很快。但是，涂层面积往往较小。

所以，等离子体喷涂通常由机器人臂完成，机器人将等离子体喷头均匀地移动到基片上。通过这种技术，大面积的涂层可以在短时间内完成。等离子体喷涂常用于高温涂层，如钛氧化物、氧化铝或氧化铝。

另一方面，溅射是基于用原子或离子对目标(即要沉积的材料块)进行轰击。溅射可以在复杂的三维表面形成涂层。因此，它扫描电子显微镜(SEM)它被广泛使用。

这是因为SEM样品必须有导电表面。如果表面电阻很高，那么在放入SEM之前，必须在上面涂一层薄金属薄膜。这是因为溅射粒子能量很高，但是溅射的原子温度很低。因此，即使是热敏材料，如生物样品，也可以进行物理气相沉积涂层。

很多现代工业都在其制造和供应线上使用PVD技术，下面是一些依赖PVD的例子：

由于PVD可以用来沉积氮化铬、氮化钛等硬涂层，因此对制造高质量、重型工具有很高的要求。比如钻头、刀具、螺丝刀。物理气相沉积涂层的另一个优点是可以保护工具和机械免受腐蚀。

PVD 沉积技术主要用于提高耐磨金属零件的耐磨性，或者使其具有耐腐蚀性。一般情况下，发动机或底盘的零件都会经过薄膜涂层处理。

PVD不仅可以沉积金、银、铂涂层，还可以用来给不锈钢零件上色，使物品具有精致的美感。后者通常通过在钢基上涂上黄铜、银或金来实现。

从生产高度复杂的镜子到特殊涂层的玻璃，PVD在光学领域的可能应用范围。玻璃片、透镜或棱镜上可以沉积保护、反射或吸收层。这些产品在现代高科技光学中发现了许多用途，从激光元件到光学仪器。

PVD(通常是溅射)通常用于微芯片和薄膜光伏电池两种半导体应用。在前者中，铂、钨或铜等大多数金属被溅射；有时是多层沉积。在后者中，玻璃或塑料基板上涂覆了稀土、金属或复合材料。

PVD涂层只是涂覆表面的一种方法。其它方法需要化学物质，这些过程通常需要大量的清洁，而且对环境不友好。PVD涂层比这些方法更安全。

另外，PVD涂层几乎可以用于任何类型的无机材料。在许多工业和研究应用中，等离子体技术及其处理方法用于表面化学变化。

采用干法清洗、活化、蚀刻、沉积物对材料进行表面处理是一种强大、成本效益高的工艺选择。能够执行具有控制可重复性和可扩展设备的工艺选择，使等离子体处理成为任何制造公司或研究团队的理想核心竞争力。

在现代工业生产中，等离子体清洗技术已经成为一种常见的表面清洗方法。它能有效彻底地去除物体表面的污垢和杂质，为后续的加工和涂层提供良好的表面质量。

那么，常见的等离子体清洗机使用氧气、氨气和氩气。氧气，离子质量大，冲击力强，能有效破坏待清洗物体表面的污垢和杂质，清除，下集我们再一起探究用什么气体清洗更好，敬请期待，我们一起揭开清洗技术的神秘之处！

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